logo

Kemiallisteknillinen Yhdistys -
Kemisktekniska Forening r.y.

 
The Finnish Society of Chemical Engineers
Etusivulle
Tarkoitus ja toiminta
Seminaarit
Kemian tekniikan palkinto
Hallinto
Yhteystiedot
Linkit
Sivukartta
In English

Chemical Engineering Seminar 2004

KEMIANTEKNIIKAN PÄIVÄT 7.10.2004 HANASAARESSA

Tämänvuotiset Kemiantekniikan päivät keskittyi simulointitekniikan uusiin kehityssuuntiin.

Ohjelma

Kemiantekniikan päivien aluksi KTY jakoi Kemiantekniikan palkinnon tunnustuksena ansiokkaasta väitöskirjatyöstä FT Petri Widstenille. Väitöskirjan aihe oli Puukuitujen hapettava aktivointi MDF-levyjen valmistamiseksi.

Varsinainen seminaariohjelma keskittyi kemiallisten prosessien simulointitekniikkaan. Päivän luennoinnin aloitti TKK:n kemian laitetekniikan professori Juhani Aittamaa alustamalla aiheesta: Simulointi prosessien kehityksessä ja suunnittelussa. Aittamaan esitys kertoi, miten tarkka ilmiöpohjainen simulointitekniikka on luonut aivan uudet mahdollisuudet prosessien kehitykselle erityisesti öljynjalostus- ja petrokemian teollisuudessa. Uusien prosessien kehitys on nopeutunut ja koetoiminta voidaan tehdä entistä pienemmässä mittakaavassa epävarmuutta aiheuttavien tekijöiden selvittämiseksi. Menetelmää on käytetty useiden uusien prosessien kehityksessä, joista mainittakoon oktaaniprosessi, jolla valmistetaan korkeaoktaanisia polttoainekomponentteja.

Dynaamisen simuloinnin käytöstä prosessien suunnittelussa ja parantamisessa kertoivat Leif Hammarström (Neste Jacobs Oy) ja Pasi Hagelberg (PIC Engineering Oy). He kertoivat, miten dynaamisen laskennan avulla voidaan suunnitella toiminnaltaan parempia prosesseja ja parantaa olemassa olevia. Heidän mukaansa dynaamisessa simuloinnissa on nyt saavutettu taso, jolla ohjelmistot ovat melko käyttäjäystävällisiä ja niissä on saatavilla valmiita prosessilaiteiden malleja sekä samoja termodynaamisia aineominaisuusmalleja kuin stationäärisimulaattoreissakin. Tämä on lisännyt ohjelmien käytettävyyttä. Dynaamisesta laskennasta on saatu merkittäviä hyötyjä niin Fortumilla kuin Kemirallakin.

Panosprosessien simuloinnista ja niiden optimoinnista kertoivat Esko Tirronen (Kemira Oy) ja Jerker Björkqvist (Ovela Solutions Oy / Åbo Akademi). Panosprosessien ja -laitteiden simulointiin on saatavilla erityisohjelmistoja, sillä panosprosessien laskenta on oma lajinsa, jota tarvitaan erityisesti hienokemian ja lääketeollisuudessa. Panosprosessien mallituksen yhtenä haasteena on panosprosessien tuotannon aikataulutus. Panosprosessit muodostuvat lukuisista laitteista, jolloin tuotannossa voi olla useita tuotteita samanaikaisesti. Optimoimalla tuotantoa aikataulutusohjelmilla voidaan saada aikaan merkittäviä säästöjä, jolloin tehtaan kapasiteettia voidaan nostaa.

Vesiliuosprosessien simuloinnista kertoi Anna Sundquist Kemira Oy:stä. Hän kertoi, että vesiliuosprosessien laskentaa tarvitaan erityisesti epäorgaanisen kemian teollisuudessa sekä puunjalostusteollisuudessa. Laskenta on melko vaativaa johtuen vesiliuosten ja niiden termodynaamisten mallien ominaispiirteistä. Viime aikoina on kehitelty malleja, joilla pyritään laskemaan veden, elektrolyyttien, sellukuitujen ja erilaisten haitta-aineiden välisiä vuorovaikutuksia. Näille on paljon käyttöä puunjalostusteollisuudessa.

Olof Hernell Comsol Ab:stä kertoi aiheesta Modeling of transport phenomena in FEMLAB. Hän näytti, miten kemiantekniikan opetusta voi nykyisin havainnollistaa käyttämällä siirtoprosesseja kuvaavia graafisia ohjelmistoja. Näitä hyödynnetään jo mm. reaktiotekniikan opetuksessa.

Sakari Seppälän (Process Vision Oy) esityksestä selvisi, että jos yrityksellä on valmiina jo suuri joukko eri laitteiden laskentamalleja, niin niistä voidaan rakentaa helposti simulaattori, jossa on graafinen käyttöliittymä. Tällaisen simulaattorin etuna on se, että yksittäisten mallien laskentaan tarvittavaa samaa työtä ei tarvitse tehdä toista kertaa, kun olemassa olevat laitekohtaiset mallit saadaan yhdistettyä alkuperäisessä muodossaan simulointiohjelmaan.

Tommi Karhela VTT:ltä kertoi laskentamalleista osana verkottunutta hajautettua tehdassuunnittelua. Tehdasmalli sisältää laitoksen kaiken rakenne- ja prosessitiedon kuten PI-kaavion, kolmiulotteisen sijoitussuunnittelumallin, prosessisimulaattorin lähtötiedot, kunnossapitotiedot jne. Yleensä nämä mallit ovat olleet erillisiä, mutta Karhelan esittämässä uudessa mallissa kaikki tieto kytkeytyy toisiinsa, jolloin niitä voi myös hyödyntää yhdessä. Lähestymistapa parantaisi mahdollisuuksia suunnitteluautomaatioon, projektin hallintaan ja laitostiedon hyödyntämiseen koko projektin elinkaaren aikana. Aiheesta on jo käynnissä yksi Tekes-hanke ja uusia on kehitteillä.

kaavio